Innovativ design för alla kontrasttekniker
Nikon’s CFI60-2 objektiv är designade för att integreras i industriella mikroskopsystem för tillverkning och inspektion där behovet av hög precision är viktigt. Objektivens innovativa design ger skarpa och kontrastrika bilder i tekniker som ljusfält, mörkfält, polarisation, epifluorescense samt differential interferens kontrast (DIC).
Objektiv med långa arbetsavstånd och korrektion för färgavvikelse
Nikon’s CFI60-2 objektiv är designade med en Phase Fresnel lins utöver de konventionella linserna. Kombinationen av dessa två lins element korrigerar för kromatisk avvikelse vilket ger bilder av hög kvalité utan någon färgavvikelse. Dessutom så gör det korta avståndet mellan de två linserna att objektiven kan ha längre arbetsavstånd.
Tu Plan BD serien: Ett objektiv för alla kontrasttekniker
Nikon’s CFI objektiv är finns i olika klasser beroende på kontrastteknik och arbetsavstånd. Förstoringar finns från 1 X till 150 X. Med Tu Plan BD serien så kan samma objektiv användas för ljusfält, mörkfält, interferens kontrast (DIC), polariserat ljus och epifluorescence. Alla objektiven har låg vikt och är designade för att användas utan täckglas.
Kontakta produktspecialist:
Teknisk specifikation
Objektiv för ljusfält
T Plan EPI Plan Series: 1X, 2,5X
Tu Plan Fluor EPI Series: 5X, 10X, 20X, 50X, 100X
Tu Plan Apo Epi Series: 50X, 100X, 150X
Objektiv för polarizsation
Tu Plan Fluor Epi P Series: 5X, 10X 20X, 50X, 100X
Ljusfältsobjektiv med långt arbetsavstånd
Tu Plan EPI ELWD Series: 20X 50X, 100X
Ljusfältsobjektiv med extra långt arbetsavstånd
T Plan EPI SLWD Series: 10X, 20X, 50X, 100X
Objektiv för alla kontrasttekniker
Tu Plan Epi BD Series: 5X, 10X, 20X, 50X, 100X
Tu Plan Apo BD Series: 50X, 100X, 150X
Tu Plan BD ELWD Series: 20X, 50X, 100X, långt arbetsavstånd
